第1607章 两手准备（2 / 2）

如果能把现有DUV光刻机的NA值从1.35大幅提升到1.70以上，相当于把等效解析度波长从142.2nm压缩到112.9nm。

这将极大扩展现有DUV设备的实用能力边界，可能直接解决40nm乃至28nm的图形化问题，显着减轻对多重曝光技术的依赖，从而绕开良率和成本的泥潭！

片刻的思索后，常浩南心中已有了初步的盘算。

他依旧没有直接点破负折射率材料的存在，但决定再向前推进一步。

「实不相瞒，火炬实验室目前正在探索一种新型的光学系统设计理念，其中涉及一些……非传统的路径。」他措辞谨慎，「为了更好地评估这种新理念的潜力，我们迫切需要一些关键的设计输入参数。」

吴明翰心说终于来了。

对方提出的要求极其具体且专业，目标明确指向了物镜系统。

结合之前提到的「新型设计理念」和对鑥铝石榴石特性的关注，一个模糊但激动人心的轮廓在吴明翰脑海中逐渐浮现——

常院士手中，很可能掌握着一种能够解决高NA值问题的颠覆性技术！

想到这里，他用肉眼难辨的速度掏出了早就准备好的纸笔：

「您说」

常浩南看着眼前这副早有准备样子也是一愣，然后开始列出需求：

「首先，我们需要明确目标NA值下对应的丶实际光刻工艺所要求的光学设计规格。包括但不限于：有效成像视场的大小丶允许的最大波像差丶畸变容限丶还有系统的工作距离等硬性指标。」

「其次是透镜组的整体结构布局……」

「……」

洋洋洒洒，十几分钟才终于说完。

吴明翰从头到尾浏览了一下。

不知道是不是常浩南有意，总之几乎不涉及华芯国际的核心技术。

甚至无需向董事会徵求意见，他这个层级就能直接做决定。

于是朝着周学点了点头。

后者随即接过话茬：

「虽然全折射物镜的研发项目已经中止，但所有技术文档和实验数据都完整归档保存着，我可以直接授权调阅，虽然当初的设计远达不到1.7NA的指标，但里面的设计逻辑丶材料选择考量丶以及当时遇到的像差问题记录，应该很有价值。」

「放心，调阅就足够了。」常浩南点头，「都是一套体系里面的，我知道内部会有一些保密要求，不会复制的。」

周学听罢，略略松了口气：

如果对方真要拷贝一份带走，难做的只会是他自己。

「感谢常院士您理解。」

周学搓了搓手，但旋即语气一变：

「不过，常院士，关于折反式物镜系统……我们华芯就只有一些最基础的原理性了解和公开文献能搜集到的皮毛信息，详细设计数据丶材料应用和像差控制经验，我们掌握得很少。」

「国内真正精于这方面，应该首推长光集团，他们是国家在高端光刻光学系统研发方面的绝对主力，也负责承担物镜系统的攻关任务……」

吴明翰这会儿已经把本子收好，重新开口道：

「常院士，如果需要的话，我可以立即和长光方面取得联系，由我们华芯出面协调，看是否能为您获取必要的规格信息或设计参考……长光的张汝宁研究团队，在这方面是真正的权威。」

果然。

常浩南心想。

这下省功夫了。

他站起身，主动和吴明翰握了握手：

「那就劳烦吴院士了。」

(本章完)